*¡Los ingredientes siguen siendo los mismos! Lo único que ha cambiado es el diseño del producto.
*Al tratarse de un producto en proceso de renovación, el diseño del producto puede variar dependiendo del momento del pedido y entrega.
*Por favor comprenda que los cambios y reembolsos son difíciles debido a los cambios de diseño.
[DESCRIPCIÓN]
Crema calmante de pino para pieles cansadas.
Con el fin de proporcionar intacto el efecto calmante de los pinos, se contuvo de forma segura mediante extracción ultrasónica a baja temperatura.
Cuida rápidamente las pieles sensibles a los estímulos externos desde varios ángulos con un ingrediente propio que combina cinco ingredientes cica, la proteína vegetal.
LHA, un ingrediente suave para el cuidado de la piel de cuarta generación para pieles sensibles, elimina suavemente las células muertas y los desechos de la piel.
Contiene ácido hialurónico en varios tamaños y cuida la piel húmeda.
Ingredientes : Agua, extracto de hoja de Pinus densiflora (409.785 ppm), Butilenglicol, glicerina, triglicérido caprílico/cáprico, 1,2-hexanodiol, extracto de centella asiática (10,365 ppm), Ácido hialurónico, ácido hialurónico hidrolizado, hialuronato de sodio, glicereth-26 cetearil olivato, propanodiol, estearato de etilhexilo, etilhexilglicerina, glicoproteínas, poliacriloildimetil taurato de amonio, alcohol cetearílico, extracto de hoja de Melia Azadirachta, dextrina, extracto de flor de Melia Azadirachta, Theobroma Cacao (Cacao) Extracto de semilla, asiaticósido (0,4188 ppm), Ácido asiático (0,4188 ppm), Madecassoside (0,4188 ppm), Ácido Madecassic (0,4188 ppm), Goma biosacárido-1, ácido capriloil salicílico, trideceth-6, olivato de sorbitán, poliacrilato de sodio, hidroxietilcelulosa, EDTA disódico
[CÓMO UTILIZAR]
Al final del cuidado de la piel, tome una cantidad adecuada del contenido y absórbalo suavemente como si aplicara una película humectante sobre la piel.
Cada persona puede tener efectos diferentes.
※ Todos los artículos comprados de nuestros listados se enviarán desde Corea del Sur.
