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REVISION SKINCARE Radiation Purifying Mask (Salon Size)

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Hersteller

Eigenschaften

Inhaltsstoffe
water (aqua), glycolic acid, pyrus malus (apple) fruit water, aminomethyl propanol, cetearyl alcohol, glycerin, lactic acid, caprylic/capric/myristic/stearic triglyceride, jojoba esters, cetyl alcohol, caprylic/capric triglyceride, decyl cocoate, dimethicone, malic acid, bentonite, chamomilla recutita (matricaria), flower extract, dicetyl phosphate, mandelic acid, ceteth-10 phosphate, enteromorpha compressa (algae) extract, phytic acid, tartaric acid, avena sativa (oat) kernel extract, citric acid, tocopherol, steareth-10, malachite extract, steareth-20, ammonium acryloyldimethyltaurate/vp copolymer, sorbic acid, xanthan gum, butylene glycol, benzoic acid, phenoxyethanol, chlorphenesin, potassium sorbate, sodium benzoate, fragrance (parfum)

Beschreibung

BeautyGlam
4.7
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